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2013年11期
納米二氧化硅對體外培養HaCaT細胞凋亡的影響
| 作 者 | 龔春梅，楊淋清，陶功華，何浩偉，劉慶成，吳德生，劉建軍，莊志雄 |
| 第一作者 | 龔春梅 |
| 作者單位 | 深圳市慢性病防治中心，廣東深圳 |
| 卷 號 | 41 |
| 發表年份 | 2013 |
| 發表刊期 | 11 |
| 發表頁面 | 4842-4845，4876 |
| 關 鍵 字 | 納米二氧化硅；細胞增殖；細胞凋亡；活性氧 |
| 摘 要 | ［目的］ 比較不同粒徑（15、30、100 nm）納米二氧化硅（nanoSiO2）和常規二氧化硅（MicroSiO2）對人皮膚表皮細胞（HaCaT）生長的抑制作用及凋亡的影響。［方法］采用不同濃度（2.5、5、10 μg/ml）不同粒徑（15、30、100 nm）的nanoSiO2和10 μg/ml的MicroSiO2（1~5 μm）染毒體外培養的HaCaT細胞24 h，同時設溶劑 |
| 附 件 |
納米二氧化硅對體外培養HaCaT細胞凋亡的影響
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